一般而言，镀膜在真空镀膜机内以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度进行 (1 Torr = 1 公厘水银柱高的压力，大气压为 760 Torr)。其镀膜膜厚约为 0.1 ~ 0.2 微米。

关于镀膜的形成，首先利用强大电流将镀膜源 (钨丝) 加热，然后把挂在钨丝上的铝片或铝线熔解。铝材从而蒸发、飞散到各方面并附着于被镀件上。熔解的铝为铝原子，以不定形或液体状态存在并附着于被镀件上，经冷却结晶后从而变为铝薄膜。

因此设定钨丝为定数时，由真空度至蒸发铝的飞散方向、钨丝的温度，钨丝到被镀件的距离等;依其镀膜条件，镀膜的性能也除着改变而发生变化。

一如前述，镀膜在10 –4 Torr左右下进行，如真空度过低时，其蒸发中的铝遇到残留的气体或者碰着钨丝被加热时产生的气体，发生冲突而冷却，形成的铝粒 (非常小的铝粒子集合体) 会附着于被镀膜件上。此时所形成的镀膜因微细铝粒中可能仍含有残留气体而令其失去光泽，也会大大降低镀膜与底油的密着性。

B. 涂料及雾化：

依各种镀膜条件形成不同的镀膜。如前述，在现场作业最容易产生的问题是雾化现象。这种现象是有机高分子(涂膜)和金属(铝膜)的膨胀系数差异而发生。虽然可能由于涂料本质所导致，但一般而言，如果使用涂料的方法正确，雾化现象应该不会发生的。但是被镀膜件的素材日新月异(包括再生料)，也可能会引起雾化。

容易引起雾化现象的原因有下述各点：